【獲證專利公告】恭賀!材光系蘇威宏教授及團隊之研究成果「使用相位光罩之顯微量測系統及方法」獲得中華民國發明專利!
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發明人 |
蘇威宏教授 |
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系所 |
材光系 |
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專利名稱 |
使用相位光罩之顯微量測系統及方法 |
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證書號 |
I 402478 |
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公告日期 |
102年7月21日 |
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專利摘要 |
一種使用相位光罩之顯微量測系統及方法，其藉由使用一非同調光源及一光柵單元提供亮暗相間之條紋影像投影至一待測物之表面上，並利用一透鏡組及一相位光罩來調變反射後條紋影像之波前，當一影像擷取單元擷取條紋影像時，由一影像處理單元再利用反卷積演算法(de-convolution algorithm)延長該影像擷取單元擷取條紋影像之景深，並根據條紋影像之扭曲程度來轉換成該待測物之立體表面形貌影像。因此，可提高顯微放大倍率、擴大深度量測範圍及提升三維量測精度。
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技轉服務窗口 |
趙偉志(分機2625) |
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