【獲證專利公告】恭賀!機電系楊台發教授及團隊之研究成果「鍍膜製程的電漿反應光學監控方法」獲得中華民國發明專利!
|
發明人 |
楊台發教授 |
|
系所 |
機電 |
|
專利名稱 |
鍍膜製程的電漿反應光學監控方法 |
|
證書號 |
I 349768 |
|
公告日期 |
100年10月1日 |
|
專利摘要 |
本發明提供鍍膜製程的電漿反應光學監控方法,是在反應腔中設置可以接收混合波長的光的光接收器,以接收進行電漿鍍膜製程的同時,由電漿的激發光對應成長的鍍膜膜厚所產生干涉光,之後再將干涉光譜轉換成光強度依時間變化的圖譜,再以此圖譜對應得知鍍膜進行時的即時資訊,而藉著電漿本身所產生的光對應鍍膜狀態所產生的干涉光譜,即時得知並監控包含鍍膜進行時的膜厚變化,以及例如反應腔中的氣體流量、濺鍍壓力、或是電漿產生功率等製程參數變化。 |
|
|
|
|
技轉服務窗口 |
吳姿慧小姐(分機2651) |
瀏覽數:
